QuantumDesign光学浮区法单晶

　　随着信息、电子和电力工业的快速的发展，以低成本生产具有高介电常数损耗的材料成为当前关注的热点，高介电常数材料无论是在电力工程，还是在微电子行业都具有十分重要的作用，研究高介电常数材料的结构与性能，对其介电机理、压敏机理和晶界效应的探讨具有深远意义。

　　(InNb)0.1Ti0.9O2陶瓷不但具有高介电系数，同时具有较小的介电消耗，是一种极具运用前景的巨介电材料。这类优异的介电性质的产生机理尚处于研究阶段，单晶样品是分析材料本征性质的有利武器。由于介电测试对样品尺寸的特殊要求，为更真实地反应样品的介电性质，获得大尺寸、高质量的(InNb)0.1Ti0.9O2单晶变得尤为重要。

　　浮区法单晶炉高效镀金双瓣对焦

　　哈尔滨工业大学宋永利等人利用光学浮区法，通过对生长条件(气氛、气压、流量、生长速率)的控制，终究取得了大尺寸(4mm直径、 0mm长)的单晶样品。该单晶样品的制备使用的是Quantum Design公司推出的光学浮区法单晶炉。这款高性能单晶炉采取镀金双面镜、高反射曲面设计，最高温度超过2000℃；系统采取高效冷却节能设计（无需额外冷却系统），稳定的电源输出保证了灯丝的高精度恒定加热功率，可制备高质量的单晶。

　　光学浮区法单晶炉型号：IRF

　　浮区法的主要优点是不需要坩埚，故加热不受坩埚熔点限制，因此可以生长熔点极高材料；生长出的晶体沿轴向有较小的组分不均匀性，在生长进程中容易观察等。浮区法晶体生长进程中，熔区的稳定是靠表面 与重力的平衡来保持，因此，材料要有较大的表面 和较小的熔态密度，故浮区法对加热技术和机械传动装置的要求都比较严格。